光刻机是半导体制造过程中的关键设备，用于将电路图案从掩模（photomask）转移到硅片上。根据Will的美语课的了解，“光刻机”的常用英文说法是photolithography machine。其中，photolithography一词由photo（光）+lithography（雕刻，平板印刷术，其中前缀“litho-”意为：stone）两部分组成。近年来国外业界也倾向于将光刻机直接称为：lithography machine。注意lithography的美语发音为：/ˌlɪˈθɑː.grə.fi/。
光刻机的工作原理是利用光的波长来控制图案尺寸。光刻机的光源通常是紫外光（UV），波长为193纳米以下。光源照射到掩模上，通过掩模上的图案将光线部分遮挡，然后光线照射到硅片上，未被遮挡的部分会在硅片上形成图案。
光刻机的重要性在于它决定了芯片的性能和工艺水平。光刻机的解析度越高，可以制造的图案越小，芯片的性能也就越高。目前，光刻机的解析度已经达到了13.5纳米，这意味着可以制造出更加精密的芯片。
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光刻机的技术发展对半导体行业具有重要意义。随着光刻机技术的不断进步，芯片的性能和工艺水平将不断提高，必将推动电子信息技术的快速发展。
总结一下光刻机在半导体制造中的重要作用：
- 决定芯片的性能和工艺水平
- 实现电路图案的转移
- 控制芯片的尺寸和形状
- 提高芯片的良率
一言以蔽之，光刻机是半导体制造的核心设备，其技术水平直接影响着半导体产业的发展。
参考链接：
(1) lithography词源